Lam Research совершенствует производство полупроводников с технологией сухого фоторезиста

Lam Research достигла значимого прорыва с технологией сухого фоторезиста (dry resist), которая была квалифицирована исследовательским центром imec для прямой печати на 28-нм шагах в межсоединениях BEOL для логических узлов 2 нм и менее. Это инновационное решение представляет собой важный шаг вперед в производстве полупроводников, обеспечивая улучшенное разрешение, производительность и выход продукции в процессах литографии с использованием экстремального ультрафиолета (EUV).

Революция в передовых методах формирования рисунка с помощью сухого резиста

Введение технологии сухого резиста решает нарастающие проблемы, с которыми сталкиваются производители микросхем при уменьшении размеров транзисторов и их шагов. Для устройств нового поколения достижение 28-нм шага в BEOL является ключевым для масштабирования, однако небольшие размеры шагов затрудняют разрешение рисунков. Технология сухого резиста от Lam оптимизирует баланс между дозой EUV-облучения, стоимостью и количеством дефектов, обеспечивая высокую точность и отличное разрешение.

Повышение возможностей EUV-литографии

В imec, ведущем центре исследований в области наноэлектроники, процессы сухого резиста для 28-нм шага успешно интегрированы с EUV-сканерами низкой числовой апертуры (low NA) и масштабируются для сканеров с высокой апертурой (high NA). Это улучшает чувствительность и разрешение EUV за один проход пластины, предоставляя преимущества в экономической эффективности, производительности и выходе годной продукции. В сравнении с традиционными процессами с использованием жидких химических резистов, технология Lam потребляет до 10 раз меньше сырья и энергии, предлагая значительные преимущества как в снижении затрат, так и в устойчивости.

Сотрудничество в отрасли и признание

"Технология сухого фоторезиста от Lam обеспечивает непревзойденное низкое количество дефектов и высокую точность формирования рисунка, делая её важным процессом для передового производства полупроводников", — отметил Вахид Вахеди, технический и экологический директор Lam Research. Стивен Шир, вице-президент imec по технологиям процессов, подчеркнул, что решение Lam демонстрирует превосходную точность и низкую дефективность при конкурентных дозах EUV.

Благодаря совместной разработке с imec Lam предоставляет производителям интегрированных устройств и литейным заводам доступ к инновационным процессам на ранних стадиях, ускоряя дорожные карты производства и сохраняя лидерство в конкурентной полупроводниковой отрасли.

Устойчивое будущее для производства на передовых узлах

Кроме технических достижений, технология сухого резиста от Lam соответствует целям устойчивого развития отрасли. Существенное сокращение потребления сырья и энергии помогает решать экологические проблемы, сохраняя при этом экономическую эффективность, что делает эту технологию ключевой для производства на передовых узлах.